“深紫外光刻胶，适用于248纳米-193纳米光刻，解锁需要三万单位能源。”

        “极紫外光刻胶，常用于11纳米-14纳米光刻，解锁需要五万单位能源。”

        “辐射线光刻胶，用于更高分辨率光刻，需解锁上述所有光刻胶后方能解锁。”

        何星舟要用到的，便是极紫外光刻胶，目前世界上最先进的光刻机，也就是极紫外光刻机，它可以制造出3纳米制程的硅基芯片。

        又是八万单位能源，何星舟将光刻胶材料技术也解锁掉。

        最后，便是最重要的光刻机制造技术了。

        光刻机，号称是目前人类工业技术的巅峰作品！以光为刀，在纳米级的尺度上进行雕刻！

        世界上最先进的EUV（极紫外）光刻机，拥有超过十万个零件，如果要运输一辆光刻机，需要准备20辆卡车，三架货机，40个集装箱，才能完成运输！

        它涉及的种种技术，几乎涵盖所有的工业领域，曾有专家断言，没有一个国家能够独立制造出光刻机！

        而在白鹰七方的列表中，对光刻机所有关键的材料、零部件，全部给打了X！就是要全方位压制神州的光刻机研发和制造！

        而决定光刻机性能的主要原因，便是“光刀”，波长越短的光刀，就能雕刻更精密的芯片。

        紫外线、深紫外线、极紫外线，目前全世界只有风车国的阿斯麦公司能够制造出极紫外线光刻机。

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