因为这个时候我们要发展航空和航天事业，这时候发现，我们卫星和飞机上用的镜头不太行。

        进口太贵，而且人家还不卖给咱。

        魔都某所搞出来的镜头又实在不堪大用，最后才想起了春城光机所。

        然后又是拨款又是那啥，结果人家也不负众望，没多长时间就给搞出来了。

        这时光机所才又再度重回了上层视野，然后就从新开始给拨款建设。

        不过光机所那十年主要任务，就是研发飞机使用的镜头，和卫星使用的镜头而已。

        至于光刻机上面使用的镜头啥的，还真就没研究过。

        直到进入新世纪的第二个十年之后，上面也渐渐发现了咱们在芯片制造领域的隐患。

        然后才又给光机所下了新的任务指令。

        然后光机所才开始研发起光刻机的镜头研发，终于在17年，在极紫外光EUV的光源这一块取得了重大突破。

        然后在去年，又在45-22纳米光刻机的曝光系统方面，再度取得重大突破。

        正是在这种势如破竹连续突破技术难关的情况下，日本人又动了小心思。

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