你就比如阿斯麦的极紫外线光刻机，使用的是光刻技术，并且光刻的时候，使用的光源是激光，使用的介质是水，还要涂抹光刻胶来保证电子不逃逸。

        整个过程非常复杂，而且因为要使用多家公司的技术和产品，所以成本非常高，牵扯的关系也非常麻烦。

        而Mapper则是想着怎么去简化这个生产过程。

        于是他们就致力于发展掩膜技术。

        说白一点，就是比如阿斯麦在光源和硅片之间，要放水作为介质，并且还要给硅片上涂抹光刻胶来防止电子逃逸。

        而这家公司的光科技术，就是在光源和硅片之间，放上一层掩膜来替代水和光刻胶。

        与此同时，他们也不用激光做光源，因为激光的光源非常规，而且对工作环境要求非常苛刻。

        他们就使用电子束来作为光源，透过掩膜进行光刻。

        这样做的好处，就是成本比极紫外线光刻大大降低了很多。

        不过缺点也很明显，那就是高耗能，并且光刻的速度会很慢，比起阿斯麦的EUV光刻速度，要慢60倍。

        所以虽然这家公司的很多创意，即便是阿斯麦都非常垂涎，但因为产品竞争力较弱。

        所以在市场上也仅仅就是有一定知名度的小众产品。

        内容未完，下一页继续阅读