不过南朝国的三桑生产的光刻机技术水平，在这个梯队里只能算吊车尾，就不多提了。

        要提的还是尼康和佳能的技术。

        其实光刻机最早是诞生在米国的，当时米国还有业界大名鼎鼎的svg、ultratech的光刻机生产制造企业。

        但是在上世纪八十年代，这些企业，就被日本的尼康和佳能给打的落花流水。

        到了九十年代初期，日本的尼康和佳能，更是光刻机领域的绝对老大。

        那时候的asml还只不过是一家只有三十一个员工的小舢板。

        而asml真正的崛起，还要说在上世纪的九十年代。

        当光刻制程的技术，从193纳米像157nm突破的时候。

        当时尼康选择了保守路线，打算采用f2激光作为光源，可这种做法费时费力，成本还高。

        而那时候湾湾的林本坚就研发出了一套沉浸式光刻发，使用极紫外光作为光源的工艺。

        可当时他像日本人推销自己这套技术的时候，被高傲的日本人一口回绝了。

        于是憋着一口气的林本坚就跑去了荷兰找到了asml，而原本就没什么好输的asml就决定赌这一票。

        没想到他们使用林本坚的技术，还真就比日本人更早突破了153nm制程的芯片。

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